原理：蝕刻是在一定的溫度條件下（45+5）蝕刻藥液經過噴頭均勻噴淋到銅箔的表面，與沒有蝕刻阻劑保護的銅發(fā)生氧化還原反應，而將不需要的銅反應掉，露出基材再經過剝膜處理后使線路成形。蝕刻藥液的主要成分：氯化銅，雙氧水，鹽酸，軟水（溶度有嚴格要求）

  品質要求及控制要點：

  1﹑不能有殘銅，特別是雙面板應該注意。

  2﹑不能有殘膠存在，否則會造成露銅或鍍層附著性不良。

  3﹑時刻速度應適當，不允收出現蝕刻過度而引起的線路變細，對時刻線寬和總pitch應作為本站管控的重點。

  4﹑線路焊點上之干膜不得被沖刷分離或斷裂。

  5﹑時刻剝膜后之板材不允許有油污，雜質，銅皮翹起等不良品質。

  6﹑放板應注意避免卡板，防止氧化。

  7﹑應保證時刻藥液分布的均勻，以避免造成正反面或同一面的不同部分蝕刻不均勻。

  制程管控參數：

  蝕刻藥水溫度：45+/-5℃ 雙氧水的溶度﹕1.95~2.05mol/L

  剝膜藥液溫度﹕ 55+/-5℃ 蝕刻機安全使用溫度≦55℃

  烘干溫度﹕75+/-5℃ 前后板間距﹕5~10cm

  氯化銅溶液比重﹕1.2~1.3g/cm3 放板角度﹑導板﹑上下噴頭的開關狀態(tài)

  鹽酸溶度﹕1.9~2.05mol/L

  品質確認：

  線寬：蝕刻標準線為.2mm & 0.25mm﹐其蝕刻后須在+/-0.02mm以內。

  表面品質：不可有皺折劃傷等。

  以透光方式檢查不可有殘銅。

  線路不可變形

  無氧化水滴

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